產品介紹：
光譜橢偏儀是一種靈活的光學技術，可用于確定薄膜材料的光學和物理性能。在沒有接觸或損害材料的情況下，它的技術已經應用于研發(fā)實驗室和用于監(jiān)測薄膜生長和沉積過程的制造設備。依賴于樣品反射的偏振光束的偏振狀態(tài)的確定。當進行SE測量時，在寬波長范圍內的許多波長處確定偏振狀態(tài)。通過模型可以將偏振狀態(tài)的變化追溯到薄膜的物理性質。材料的層厚、表面粗糙度、折射率（n）和消光系數(shù)（k）等特性可以通過回歸分析精度確定。SE儀器使用白光源，并選擇單獨的波長進行電機驅動單色儀或可同時檢測多個波長的多通道檢測器進行檢測。增加采集數(shù)據的角度和波長數(shù)量可提高分析精度，復雜的層結構。
產品參數(shù)：
波長范圍 | 250~1100mm |
光斑尺寸 | 1~5mm |
試樣尺寸 | 直徑達300mm |
測量厚度范圍 | 高達10μm |
測量時間 | 典型的1s每次 |
角度范圍 | 10到90度 5度為一個間隔 |
精度 | 優(yōu)于0.25% |
重復性 | ＜1A |
主要應用：
1.光刻膠、聚酰亞胺、氧化物、氮化物
2.光學涂層，TiO2，SiO2，Ta2O5 .....
3.半導體化合物，細胞間隙
4.功能薄膜在MEMS/MOEMS
5.薄膜晶體管（TFT）棧
6.導電氧化物：氧化銦錫
7.涂層的醫(yī)療器械
8.非晶、納米晶薄膜
9.薄金屬層
